化学气相沉积技术介绍
化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)是一种用来产生纯度高、性能好的固态材料的化学技术。半导体产业使用此技术来成长...
发布日期:2021-03-09
化学气相沉积技术介绍
化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)是一种用来产生纯度高、性能好的固态材料的化学技术。半导体产业使用此技术来成长...
原子层沉积概念
原子层沉积(Atomic layer deposition,简称ALD)通过前驱体A与基体表面的饱和化学吸附和反应生成第一层原子层,然后通过吹扫排除剩余前...
发布日期:2021-03-09
原子层沉积概念
原子层沉积(Atomic layer deposition,简称ALD)通过前驱体A与基体表面的饱和化学吸附和反应生成第一层原子层,然后通过吹扫排除剩余前...
什么是等离子体技术
等离子体是物质除气态、液态以及固态以外的第四种形态,其由阳离子、中性粒子、自由电子等多种不同性质的粒子所组成的电中性物质,其...
发布日期:2021-03-08
什么是等离子体技术
等离子体是物质除气态、液态以及固态以外的第四种形态,其由阳离子、中性粒子、自由电子等多种不同性质的粒子所组成的电中性物质,其...
薄膜封装概念
薄膜真空沉积的一个很重要的技术应用就是薄膜封装。人们对薄膜封装最简单的认识就是日常生活中最常见的保鲜膜,它的水氧渗透率大约是1-10 g...
发布日期:2021-03-08
薄膜封装概念
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