PECVD – 等离子体化学气相沉积设备 Eagle系列 EC-101-300mm/PE

Eagle系列（E系列）：E系列PECVD产品（代表型号EC-101-300mm/PE）是针对高校、科研院所、企业研发中心等从事基础研究之用户所开发的标准化、全自动化、具有较高稳定性的等离子体增强化学气相沉积设备。

该设备配备有直径300mm的工件台，可适用于12寸及以下晶圆或10寸以内玻璃基板的薄膜沉积需要，样品区域内的薄膜不均匀性可控制在5%以内（针对标准氮化硅薄膜）。

该设备主要用于氮化物、氮氧化物等无机介质层的沉积，亦可通过可选的高工艺温度腔室将应用扩展至碳化硅、碳纳米管、石墨烯、硫化钼、类金刚石等新型功能材料的制备和生长。通过公司自主研发的等离子体增强技术，Eagle系列PECVD设备能够为客户提供工作温度更低、沉积速率更快、膜层更致密的薄膜沉积方案。

态锐仪器提供标准SiNx薄膜沉积recipe以供客户验收设备之用。如客户有其他薄膜材料的沉积工艺需求，可通过购买相应的标准recipe或工艺开发服务获得技术支持。

Eagle系列 EC-101-300mm/PE 参数介绍

极尺寸	直径φ300mm
气体类型	Ar，O2等，及其他可挥发类气体
气路系统	标配3路气体管路，其他气体源可选配
控制阀	专用高效电磁阀或者气动阀
气体流量控制	气体质量流量计，量程为300sccm，范围可选
本底真空	< 2x10-4Pa，防腐泵配备复合分子泵
漏率	<8.0x10-10Pa.m3/s
工作温度	100-500℃，更高工作温度可选
放电方式	平板式电容耦合等离子体（CCP）或者电感耦合等离子体（ICP）
放电电源	13.56MHz射频电源，功率300W，500W，1000W可选（感应耦合远程等离子体）； 或者选配40KHz中频电源
控制系统	PLC+触摸屏
电源	50Hz/220V或380V
设备尺寸	1500mm x 1500mm x 1600mm（长x宽x高）
观察窗	配备腔室观察窗