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pecvd
浏览数:987 发布于:2021-03-09
Eagle系列(E系列):E系列PECVD产品(代表型号EC-101-300mm/PE)是针对高校、科研院所、企业研发中心等从事基础研究之用户所开发的标准化、全自动化、具有较高稳定性的等离子体增强化学气相沉积设备。
该设备配备有直径300mm的工件台,可适用于12寸及以下晶圆或10寸以内玻璃基板的薄膜沉积需要,样品区域内的薄膜不均匀性可控制在5%以内(针对标准氮化硅薄膜)。
该设备主要用于氮化物、氮氧化物等无机介质层的沉积,亦可通过可选的高工艺温度腔室将应用扩展至碳化硅、碳纳米管、石墨烯、硫化钼、类金刚石等新型功能材料的制备和生长。通过公司自主研发的等离子体增强技术,Eagle系列PECVD设备能够为客户提供工作温度更低、沉积速率更快、膜层更致密的薄膜沉积方案。
态锐仪器提供标准SiNx薄膜沉积recipe以供客户验收设备之用。如客户有其他薄膜材料的沉积工艺需求,可通过购买相应的标准recipe或工艺开发服务获得技术支持。
Eagle系列 EC-101-300mm/PE 参数介绍
极尺寸 | 直径φ300mm |
气体类型 | Ar,O2等,及其他可挥发类气体 |
气路系统 | 标配3路气体管路,其他气体源可选配 |
控制阀 | 专用高效电磁阀或者气动阀 |
气体流量控制 | 气体质量流量计,量程为300sccm,范围可选 |
本底真空 | < 2x10-4Pa,防腐泵配备复合分子泵 |
漏率 | <8.0x10-10Pa.m3/s |
工作温度 | 100-500℃,更高工作温度可选 |
放电方式 | 平板式电容耦合等离子体(CCP)或者电感耦合等离子体(ICP) |
放电电源 | 13.56MHz射频电源,功率300W,500W,1000W可选(感应耦合远程等离子体); 或者选配40KHz中频电源 |
控制系统 | PLC+触摸屏 |
电源 | 50Hz/220V或380V |
设备尺寸 | 1500mm x 1500mm x 1600mm(长x宽x高) |
观察窗 | 配备腔室观察窗 |
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