PEALD – 卷对卷式原子层沉积设备 Eagle系列 EA-101-R2R/PE

卷对卷式原子层沉积设备 Roll to Roll ALD，Eagle系列（E系列）：E系列R2R PEALD产品（代表型号EA-101-R2R/PE）是针对高校、科研院所、企业研发中心等从事基础研究之用户所开发的标准化、全自动化、具有较高稳定性的等离子体增强原子层沉积设备。

该设备配备有收放卷装置及沉积区内的三对辊（更多对数可选），走膜速度最高可达到0.5m/s，适用于幅宽200mm的薄膜卷材的连续沉积需要。沉积过程中工艺温度低于200℃，且具有良好的薄膜沉积均匀性，在有效沉积范围内可控制在2%以内。通过正反向走膜，可在不破坏真空环境的条件下，实现不限次数的循环沉积。

该设备主要用于快速沉积PET、PI、铜箔、铝箔等柔性卷材的水氧阻隔层，具有规模化生产应用的潜力。

态锐仪器提供标准Al2O3薄膜沉积recipe以供客户验收设备之用。如客户有其他薄膜材料的沉积工艺需求，可通过购买相应的标准recipe或工艺开发服务获得技术支持。

卷对卷式原子层沉积系统结构示意图 （Roll to Roll ALD Scheme）

Eagle系列 EA-101-R2R/PE设备参数，如下表：

基材尺寸	≤200 mm
基材类型	金属膜，塑料薄膜
工作温度	≤ 200℃，具体温度可根据工艺和基材选择
走膜速度	0.1～0.5 m/s
前驱体源	最多5路
沉积材料	SiO2、Al2O3、HfO2、MgO、TiN、TiO2、ZnO、ZnS等
薄膜不均匀性	< ± 2 %
设备尺寸	2000mm x 1000mm x 2000mm（长x宽x高）
观察窗	配备观察窗