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通过等离子体增强化学气相沉积（PECVD）在多晶立方金刚石和高温高压（HTHP）单晶立方金刚石的基底实验中获得T-碳相。 成果简介 本文中国科学院大...
发布日期：2021-03-08
薄膜制备工艺在超大规模集成电路技术中有着非常广泛的应用，按照其成膜方法可分为两大类：物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（CVD）。等离子增强型化学气相淀...
发布日期：2021-03-02
金刚石膜优异的光学性能使其成为光学窗口材料的最佳选择。天然金刚石数量稀少，价格昂贵，且为颗粒状，限制了其在光学领域的应用。化学气相沉积(CVD) 金刚石...
发布日期：2021-03-01
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