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中科院大学通过等离子体增强化学气相沉积法制备T-碳

通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)在多晶立方金刚石和高温高压(HTHP)单晶立方金刚石的基底实验中获得T-碳相。 成果简介 本文中国科学院大...

发布日期:2021-03-08
通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)在多晶立方金刚石和高温高压(HTHP)单晶立方金刚石的基底实验中获得T-碳相。 成果简介 本文中国科学院大...

常见的四个PECVD种类介绍

薄膜制备工艺在超大规模集成电路技术中有着非常广泛的应用,按照其成膜方法可分为两大类:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。等离子增强型化学气相淀...

发布日期:2021-03-02
薄膜制备工艺在超大规模集成电路技术中有着非常广泛的应用,按照其成膜方法可分为两大类:物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。等离子增强型化学气相淀...

CVD金刚石膜的研究进展与应用

金刚石膜优异的光学性能使其成为光学窗口材料的最佳选择。天然金刚石数量稀少,价格昂贵,且为颗粒状,限制了其在光学领域的应用。化学气相沉积(CVD) 金刚石...

发布日期:2021-03-01
金刚石膜优异的光学性能使其成为光学窗口材料的最佳选择。天然金刚石数量稀少,价格昂贵,且为颗粒状,限制了其在光学领域的应用。化学气相沉积(CVD) 金刚石...
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